2 月 11 日消息，據(jù) TheElec 報道，韓國 EUV 設(shè)備制造商 ESOL 首席執(zhí)行官 Kim Byung-gook 在接受采訪時表示，今年將推出其第二代 EUV(極紫外)設(shè)備原型。
KimByung-gook 說，該公司去年獲得了 350 億韓元(當前約 1.88 億元人民幣)的資金，其中大部分將用于研發(fā)。到目前為止，ESOL 已經(jīng)在其第一代產(chǎn)品線中推出了四款產(chǎn)品。其中，EUV 掩模檢查設(shè)備和 EUV 薄膜透光率檢測機已經(jīng)產(chǎn)生收入。
ESOL 是芯片薄膜制造商 FST 的子公司，由曾在三星芯片業(yè)務(wù)部門工作的 Kim Byung-gook 于 2018 年創(chuàng)立。
IT之家了解到，ESOL 主要開發(fā) EUV 解決方案，專注于為 EUV 或極紫外光刻應(yīng)用開發(fā)各種解決方案和設(shè)備。
其第一代產(chǎn)品線的另外兩款產(chǎn)品，即 EUV 相位反轉(zhuǎn)掩模機和用于光刻膠顯影的光刻機，也有望在今年產(chǎn)生收入。
ESOL 目前的四款產(chǎn)品中的主要產(chǎn)品是其薄膜透光率檢測設(shè)備，在該領(lǐng)域它至少要面臨兩個競爭對手。
EUV 掩模檢查設(shè)備稱為 SREM 330，擁有掃描反射 EUV 顯微鏡，還有稱為 FREM 或全場反射 EUV 顯微鏡的配套設(shè)備正在開發(fā)中。
同時，ESOL 公司 EUV 第二代陣容共有三款產(chǎn)品，其中一款將于今年推出。新設(shè)備將包括升級后的 EUV 掩模檢查設(shè)備，可以掃描掩模的整個表面，而不是像第一代機器那樣只掃描某些點。
